Name: ALD mini-syposium
Start: 2026-03-19T10:15:00+01:00
End: 2026-03-19T12:00:00+01:00
Location: Technohal Auditorium

Vorig event Volgend event

donderdag 19 maart 2026 10:15 - 12:00

Wij nodigen u graag uit voor een minisymposium waar de nieuwste ontwikkelingen in ALD-toepassingen worden gepresenteerd.

Naast het mini-symposium over nieuwe ontwikkelingen in ALD voor de industrie, organiseren we 's middags groepsbezoeken waar u informeel en vrijblijvend kunt praten over uw werk met atomaire laagafzetting (ALD) met onze gasten en internationale ALD-experts.

Datum: donderdag 19 maart 2026
Tijd: 10:15 – 12:00 uur
Locattie: Technohal, Auditorium (TL 1.133)

Meer informatie over het mini-symposium en de groepbezoeken is te vinden op de Engelstalige pagina.

Ochtend programma

10:15-11:00

Area-Selective Deposition Processing for Integrated Circuits and Photonics in the A.I.-Era, and more, by prof. Rong Chen, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, China.

11:05-11:50

Atomic Control at Commercial Scale: Advancements of ALD in HVM for Compound Semiconductor and Battery Applications, by dr. Matt Weimer and dr. Tyler J. Myers, Forge Nano, Thornton, CO 80241, USA

Uw gastheren

Technohal Auditorium

Voeg aan kalender toe

Tags: Conferentie / symposium

Meer events

Evenementenoverzicht