In Memoriam: Marko Sturm

Op 24 december is een zeer vooraanstaande en gewaardeerde onderzoeker, Marko Sturm, plotseling overleden: Marko is onverwacht gestorven op 47-jarige leeftijd. De Universiteit Twente heeft een collega verloren met een uitzonderlijke menselijke warmte en een indrukwekkende wetenschappelijke impact. Het nieuws is met grote verslagenheid ontvangen.

Marko behaalde in 2001 zijn MSc-diploma cum laude bij prof. Brongersma aan de Technische Universiteit Eindhoven. In 2006 promoveerde hij aan de Universiteit Twente bij prof. Poelsema op onderzoek naar high-k diëlektrische metaaloxiden en vervolgens voltooide hij een tweejarige postdoctorale studie naar methanolkatalyse in de groep van prof. Freund aan het Fritz Haber Instituut in Berlijn. Na zijn overstap in 2008 naar het FOM-instituut DIFFER in Nieuwegein verrichtte Marko aanvankelijk verkennend onderzoek naar materialen voor fotoconversie, als onderdeel van energiegerelateerd onderzoek onder leiding van prof. Kleyn bij FOM. Uitgedaagd door de complexiteit hiervan besloot Marko zich daarna te richten op het opzetten van nieuw EUV-fotochemieonderzoek in de groep van prof. Bijkerk bij DIFFER. Een absoluut hoogtepunt in Marko’s carrière was de bouw van een aan EUV gewijde oppervlakte-analyseopstelling binnen de onderzoeksfaciliteiten van ASML in Veldhoven. Vanaf 2014 werd Marko senior staflid van de XUV Optics-groep, die in datzelfde jaar naar Twente verhuisde en werd voortgezet als onderdeel van het MESA+ Instituut en de Faculteit Science & Technology. Deze verhuizing werd in belangrijke mate mogelijk gemaakt door Marko’s uitgebreide ervaring op deze specifieke terreinen.

Marko Sturm was een zeer gerespecteerde onderzoeker binnen de XUV Optics-groep in Twente, met sterke en duurzame banden met collega-onderzoekers aan de UT, ASML, Zeiss, VDL en TRUMPF. Zijn werk op het gebied van oppervlakte-analyse richtte zich op de fysisch-chemische interacties van energetische fotonen met nanoschaaloppervlakken en dunne films. Marko was in het bijzonder een succesvolle pionier van in-vacuo ionenverstrooiing bij zeer lage ionenergieën (LEIS). De resultaten hiervan lagen aan de basis van enkele geavanceerde industriële toepassingen en vormen een zeldzaam voorbeeld van de valorisatie van wetenschappelijke bevindingen naar geavanceerde lithografie. Zijn wetenschappelijke artikelen zijn geschreven met een bijna poëtische schoonheid en tonen een grote analytische helderheid. Zij zullen de basis vormen voor het lopende en toekomstige onderzoek binnen de XUV-groep en dragen het blijvende stempel van Marko’s inspirerende en hoogwaardige onderzoek.

Naast zijn wetenschappelijke prestaties was Marko een bijzonder fijn mens om mee samen te werken – vriendelijk, zeer deskundig, eerlijk en altijd bereid om te helpen. Hij begeleidde studenten met zorg, ondersteunde collega’s met doordacht advies en was de aangewezen expert bij lastige vraagstukken. Zijn vindingrijkheid en toewijding verrijkten ons team op talloze manieren.

Marko bracht mensen samen. Hij was altijd de eerste die zich aanmeldde om te helpen bij sociale activiteiten, zorgde voor vrolijke momenten en gaf bemoedigende woorden die de mensen om hem heen wisten op te beuren. Zijn overlijden is een diep verlies voor ons allen, zowel professioneel als persoonlijk. Zijn kennis, zijn geest en zijn vriendschap zullen enorm worden gemist.

Onze gedachten zijn bij Marko’s familie in deze moeilijke tijd. Hij zal worden herinnerd met diep respect en grote dankbaarheid.

Namens het Faculteitsbestuur TNW en alle medewerkers van de vakgroep XUV Optics.